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J-GLOBAL ID：200903023884830481

照射装置

Inventor： 八木 克哉 ,  ▲吉▼田 尚 ,  新 勇一
Applicant, Patent owner： コニカ株式会社
Agent (1)： 福田 充広 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002101739
Publication number (International publication number)：2003291153
Application date： Apr. 03, 2002
Publication date： Oct. 14, 2003
Summary：

【要約】【課題】 半導体光源を効率的に利用して均一な処理が可能な照射装置を提供すること。【解決手段】 半導体レーザ12から出射されたレーザ光は、コリメータレンズ21を経て平行光束され、ビーム整形部30を経て所望のビーム断面にされた後、ビームスプリッタ41を通過して2次光源形成部50の集光レンズ51に平行光束として入射する。集光レンズ51に入射したレーザ光は、集光されてピンホール板52に入射する。ピンホール板52の位置には、点状の2次光源が形成され、対物レンズ60には、波面の乱れのない均一なエネルギ分布のレーザ光が入射する。ピンホール板52の点状光源から出射したレーザ光は、対物レンズ60に入射して均一な平行光束に変換される。

Claim (excerpt)：

近紫外域から緑色までのうち所定波長の光束を出射する半導体光源と、前記半導体光源から出射される光束のうち所定の空間周波数成分を抽出する光処理手段とを備える照射装置。

IPC (3)：

B29C 35/08 ,  G02B 27/46 ,  H01S 5/00

FI (3)：

B29C 35/08 ,  G02B 27/46 ,  H01S 5/00

F-Term (4)：

4F203DA12 ,  4F203DC08 ,  5F073AB27 ,  5F073BA09