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J-GLOBAL ID：200903023889025064
非晶質シリカ及びそれを用いたインクジェット記録媒体の製造方法
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
河澄 和夫
, 小田 淳子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003089440
Publication number (International publication number)：2004292272
Application date： Mar. 27, 2003
Publication date： Oct. 21, 2004
Summary：
【課題】インクジェット記録媒体のインク受理層用顔料として特に適している非晶質シリカを、効率よく製造する方法、この方法で得られるシリカ分散体を用いた記録適性の良いインクジェット記録媒体の製造方法を提供することにある。【解決手段】珪酸ソーダ水溶液に鉱酸を添加して中和反応により非晶質シリカを製造する方法において、珪酸ソーダに、中和当量の25〜55%に相当する量の鉱酸を60°C以上で反応系の沸点以下の温度において添加した後、熟成して粒子の析出及び凝集を行う第1工程、ついで 実質的な残量の鉱酸を添加し、熟成時間内に湿式粉砕処理を施す第2工程、さらに鉱酸を添加して分散体のpHを8〜3の範囲に調整する第3工程により非晶質シリカおよびその分散体を得る。またこの分散体を水洗、ろ過し再分散した分散体をそのまま用いて所要薬品を配合しインク受理層用塗料とし、情報に従ってインクジェット記録媒体を作成する。
Claim (excerpt)：
珪酸ソーダ水溶液に鉱酸を添加して中和反応により非晶質シリカを製造する方法において、珪酸ソーダに、中和当量の25〜55%に相当する量の鉱酸を60°C以上で反応系の沸点以下の温度において添加した後、熟成して粒子の凝集及び析出を行う第1工程、ついで前工程の添加分と積算して中和当量が70〜95%となるように鉱酸を添加し、熟成時間内に湿式粉砕処理を施す第2工程、さらに鉱酸を添加して分散体のpHを8〜3の範囲に調整する第3工程とからなることを特徴とする、非晶質シリカの製造方法。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (19)：
2H086BA15
, 2H086BA33
, 4G014AH02
, 4G072AA28
, 4G072CC04
, 4G072EE01
, 4G072GG02
, 4G072GG03
, 4G072HH21
, 4G072JJ13
, 4G072LL06
, 4G072MM01
, 4G072RR06
, 4G072RR15
, 4G072SS01
, 4G072SS05
, 4G072SS10
, 4G072SS11
, 4G072UU25
