走査露光方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大森聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993307750
Publication number (International publication number)：1995161614
Application date： Dec. 08, 1993
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：

【要約】【目的】スキャン露光方式でフォーカス位置を先読みしながらウエハ上の各ショット領域にレチクルのパターンを露光する場合に、ウエハの外周部のショット領域であってもフォーカス位置又は傾斜角の制御を高精度に行う。【構成】ウエハ15の外周部のショット領域S10,S1〜S4,S5,S23,S28,S29〜S32については、それぞれスリット状の露光領域16が相対的にウエハ15の内側から外側に移動するようにウエハ15を走査して露光を行う。その際に、走査方向に手前側の先読み領域35で計測したフォーカス位置のデータに基づいて、ウエハ15のフォーカス位置及び傾斜角をレチクルの投影像の像面のフォーカス位置及び傾斜角に合わせ込む。

Claim (excerpt)：

転写用のパターンが形成されたマスクをスリット状の照明領域で照明し、前記照明領域内の前記マスクのパターンを感光性の基板側に投影露光し、前記基板上の各ショット領域を走査開始位置に移動した後、前記スリット状の照明領域に対して所定の方向又はこの逆方向に前記マスクを走査するのと同期して、順次前記基板上の各ショット領域を前記スリット状の照明領域と共役な露光領域に対して所定の方向又はこの逆の方向に走査する際に、前記スリット状の照明領域と共役な露光領域に対して前記基板の走査方向に手前側で前記基板の露光面の高さを先読み方式で検出し、該先読みされた高さに基づいて前記基板の各ショット領域の高さを調整しつつ、前記基板の複数のショット領域にそれぞれ前記マスクのパターン像を逐次露光する走査露光方法において、前記基板の外周部のショット領域に露光する際に、前記先読み方式による高さ検出、及び該検出結果に基づく前記基板の高さ補正を行いつつ、前記露光領域が前記外周部のショット領域上を相対的に前記基板の内側から外側に向かう方向に移動するように前記基板を走査して露光を行うようにしたことを特徴とする走査露光方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 518 , H01L 21/30 514 B , H01L 21/30 526 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

特開平4-196513
スキャン型露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-161024 Applicant：キヤノン株式会社

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