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J-GLOBAL ID：200903023924601685

ハイブリッドコンダクタおよび複数半径ドーム型シーリングを備えた高周波プラズマリアクタ

Inventor： ヒロジ ハナワ ,  ジェラルド ツェヤオ イン ,  ダイアナ シャオビン マ ,  フィリップ エム. サルツマン ,  ピーター ケイ. ローウェンハード ,  アレン ツャオ
Applicant, Patent owner： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996028140
Publication number (International publication number)：1996321490
Application date： Feb. 15, 1996
Publication date： Dec. 03, 1996
Summary：

【要約】【課題】プラズマイオン密度分布の均一性を適正化するために、プラズマ特性の柔軟な用途の広い調整を許容するプラズマリアクタを提供すること【解決手段】半導体ウエハを処理するための誘導結合型高周波プラズマリアクタは、側壁(10)及びシーリング(12)を有するリアクタチャンバと、そのチャンバ内ウエハを支持するためのウエハペデスタル(36)と、高周波電源(28、30)と、処理ガスをリアクタチャンバに導入するための装置(24)と、高周波電源に接続されたリアクタチャンバ付近のコイル誘導子を含み、このコイル誘導子は、(a)側壁の一部に対面し底部巻線及び頂部巻線を含むサイドセクションであって、頂部巻線はシーリングの頂部高さに少なくともほぼ相当する高さにある前記サイドセクション、(b)サイドセクションの頂部巻線から半径方向内側に伸びるトップセクションであって、少なくともシーリングの大部分の上にほぼ横たわる前記トップセクションとを含む。

Claim (excerpt)：

プラズマリアクタであって、ほぼ円弧形状のシーリング(12)を備えるリアクタチャンバと;処理の為にウエハを支持するウエハペデスタルであって、前記シーリングは前記ペデスタルと重複する関係にて間隔を開けて対面して支持される前記飢えはペデスタルと;前記チャンバに処理ガスを導入する手段と;高周波電源(28、30)と;前記高周波電源に結合され、前記ほぼ円弧形状シーリングに等角な形状を含み、直円筒形状を含み、これらの形状に及ぶ範囲内に入る形状を有する、前記シーリング付近のコンダクタと;を備えるプラズマリアクタ。

IPC (2)：

H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (2)：

H01L 21/302 B ,  H05H 1/46 L