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J-GLOBAL ID：200903023935971646

半導体基板の洗浄装置および洗浄方法

Inventor： 祢津 茂義 ,  原田 康之
Applicant, Patent owner： 信越半導体株式会社 ,  株式会社プレテック
Agent (1)： 山本 亮一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995292592
Publication number (International publication number)：1997017765
Application date： Nov. 10, 1995
Publication date： Jan. 17, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明は、半導体基板の洗浄において、従来のアルカリ薬液を使用しないので、産業廃水処理簡略化され、しかも洗浄工程を大幅に短縮できる半導体基板の洗浄装置とその方法の提供を目的とする。【構成】 方形の洗浄槽2の中心部に、被洗浄物としての半導体基板Wをほぼ垂直方向に保持して洗浄する洗浄装置1であり、洗浄槽2は、被洗浄物が配置されるカソード室3と、その両側に設けられる2組のアノード室4,4とで構成され、カソード室3とアノード室4,4は、中空の流路が形成された2組のH+ イオン交換膜でなる隔壁5によって区画され、また、カソード室3の隔壁5の表面には、カソード電極板7が固着され、さらに前記アノード室4,4の隔壁5の表面には、隔壁5を介してカソード電極板7と対向する位置に、カソード電極板7とほぼ同一面積のアノード電極板8が固着された構成である。

Claim (excerpt)：

方形の洗浄槽の中心部に、被洗浄物としての半導体基板をほぼ垂直方向に保持して洗浄する洗浄装置であって、前記洗浄槽を、被洗浄物が配置されるカソード室と、その両側に設けられる2組のアノード室とで構成されるべく、中空の流路が形成された2組のH+ イオン交換膜にてなる隔壁によって区画し、前記カソード室における、前記被洗浄物と対面する両側のH+ イオン交換膜よりなる隔壁の表面にカソード電極板を固着させるとともに、前記アノード室における該隔壁の表面で、かつ該隔壁を介して前記カソード電極板と対向する位置には、該カソード電極板とほぼ同一面積のアノード電極板を固着させてなることを特徴とする半導体基板の洗浄装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/10

FI (3)：

H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 M ,  B08B 3/10 Z