レーザ光照射方法及びレーザ光照射装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高田守 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995158027
Publication number (International publication number)：1997007968
Application date： Jun. 23, 1995
Publication date： Jan. 10, 1997
Summary：

【要約】【目的】被照射基板にレーザ光を照射し、熱処理等を行うレーザ光照射装置において被照射基板が大面積化しても、異物が付着しにくく、高精度かつ高速に全面にわたってレーザ光を照射することが可能な装置を得ることを目的とする。【構成】本発明においては、被照射基板7を垂直にフレーム状の基板保持装置8で保持し、側方からレーザ光2を照射できるよう構成した。また、従来のステップアンドリピート方式に替って、被照射基板7を毎回位置決め停止せず、連続走行しながらレーザ光照射できるように構成した。このため、被照射基板が大面積化しても、これまで処理時間の大半を占めていた静止安定の時間が削減でき、短時間で全面あるいは複数の被照射ラインにレーザ光照射することができる。さらに、ビーム強度分布測定器を備え、レーザ出力、ビームプロファイルのチェックを事前に、実パワーで実施できるように構成した。

Claim (excerpt)：

光源から出射されたレーザ光を集束し、該集束されたレーザ光あるいは被レーザ光照射物を保持する保持部を走査して、レーザ光を被レーザ光照射物に照射するレーザ光照射装置を用いたレーザ光照射方法において、レーザ光と被レーザ光照射物とのアライメントを行う第1のステップと、アライメントされた状態で、被レーザ光照射物保持部を基準位置から所定の方向に走査駆動させる第2のステップと、走査駆動中の被レーザ光照射物保持部の位置を計測する第3のステップと、第3のステップで計測された位置データと予め記憶されていたレーザ光照射位置情報とを比較する第4のステップと、第4のステップにおいて計測された位置データと予め記憶されていたレーザ光照射位置が一致した場合被レーザ光照射物保持部を走査駆動させた状態で、レーザ光を開始位置から終了位置まで所定の方向に走査しながら照射する第5のステップとを備えたことを特徴とするレーザ光照射方法。

IPC (3)：

H01L 21/268 , G02B 26/10 , H01L 21/20

FI (3)：

H01L 21/268 B , G02B 26/10 A , H01L 21/20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平1-276622
レーザアニール処理装置及びその制御方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-069049 Applicant：株式会社光昭製作所, 茂呂昭, 柴田佳明
特開平1-261834

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