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J-GLOBAL ID：200903023980399546

標準ガス調製方法および装置

Inventor： 中村 祐子 ,  中野 和男
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立東京エレクトロニクス株式会社
Agent (1)： 梶原 辰也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992298097
Publication number (International publication number)：1994117972
Application date： Oct. 08, 1992
Publication date： Apr. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 希釈工程を用いずに、極低濃度で、濃度が既知の標準ガスを調製する。【構成】 試料容器9が収容される蒸発室7に接続されている窒素ガス供給路3に圧力調整器4および流量コントローラ5を介設する。蒸発室7に試料容器9の周囲の温度を制御する温度調整器12を設備する。温度調整器12によって蒸発室7の温度を変更調整して、試料容器7に収容された水10から蒸発する水蒸気11の量を制御する。【効果】 蒸発した水蒸気11と窒素ガス1とが混合されて標準ガス20が発生される。その所望する標準ガス濃度に対応する温度を温度調整器12に指定することにより、水蒸気11の蒸発量が指定した温度に対応した値に制御されるため、発生された標準ガスの濃度は所望の濃度に調製される。

Claim (excerpt)：

試料が収容されている蒸発室にキャリアガスが供給され、この蒸発室の雰囲気温度または圧力、あるいは両方が指定された値に調整されて維持されることにより、前記試料からの蒸気の蒸発量が制御され、この蒸気が前記キャリアガスに混合されることによって標準ガスが発生されると同時に、この標準ガスの濃度が前記指定温度または圧力に対応する前記蒸気の蒸発量に見合う値に調製されることを特徴とする標準ガスの調製方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭57-128840
  
• 特開昭63-123109
  
• 特公昭44-008798