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J-GLOBAL ID：200903023981619760

質量分析装置用のイオン源およびイオン源の洗浄方法

Inventor：
バジック ステバン

About バジック ステバン


Applicant, Patent owner：
マスラボ リミテッド

About マスラボ リミテッド


Agent (1)： 吉田 研二 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1999511844
Publication number (International publication number)：2001502114
Application date： Aug. 06, 1998
Publication date： Feb. 13, 2001
Summary：
【要約】低圧質量分析装置用のイオン源は、比較的高圧で動作して目的の試料イオンを含む試料流を注入オリフィスを介して質量分析装置に与える大気圧試料イオン化器を含む。試料流は、クロマトグラフィ用緩衝液として溶出されるか、または試料抽出副産物として検体中に現れる一定の不揮発性成分を含む。試料イオンがオリフィスを通って高圧領域から低圧領域へと進むと、不揮発性成分は注入オリフィス周辺領域に堆積する。洗浄液搬送用の導管は、注入オリフィスに隣接して開口を有し、イオン源の動作時にオリフィス部材の表面の少なくとも一部上に洗浄液を与える。
Claim (excerpt)：
低圧質量分析装置用のイオン源であって、 比較的高圧で動作して、不要な気体および液滴が混入した所定の試料イオンを含む試料流を与える大気圧試料イオン化器と、 前記試料イオン化器と前記質量分析装置との間に注入オリフィスを規定するオリフィス部材と、 洗浄液を運ぶ導管と、 前記導管への接続に適した洗浄液リザーバと、を含み、 前記導管は、前記オリフィス部材の注入オリフィスに隣接して、前記イオン化器の動作時に前記オリフィス部材の表面の少なくとも一部上に洗浄液を与える開口を備えることを特徴とするイオン源。
IPC (4)：
H01J 49/10 ,  G01N 27/62 ,  G01N 30/72 ,  H01J 49/04
FI (5)：
H01J 49/10 ,  G01N 27/62 X ,  G01N 27/62 G ,  G01N 30/72 C ,  H01J 49/04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • 液体クロマトグラフ質量分析計
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-097348   Applicant：株式会社日立製作所, 日立計測エンジニアリング株式会社
  • 液体クロマトグラフ質量分析計
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-282056   Applicant：株式会社日立製作所, 日立計測エンジニアリング株式会社
  • 特開昭60-241634
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