Pat

J-GLOBAL ID：200903023983846322

化学増幅型レジスト組成物

Inventor： 上谷 保則 ,  尾崎 晴喜 ,  安藤 信雄
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996097155
Publication number (International publication number)：1997281697
Application date： Apr. 18, 1996
Publication date： Oct. 31, 1997
Summary：

【要約】【課題】 酸発生剤による化学増幅作用を利用した、いわゆる化学増幅型レジストにおいて、表面難溶化層の形成を抑制し、プロファイルや解像度に優れるレジスト組成物を提供する。【解決手段】 放射線の作用により酸を発生する酸発生剤、アルカリ可溶性樹脂および、フェノール性水酸基を有するが、酸の作用により解裂可能な基を有しない分子量1000以下のフェノール系化合物を含有する化学増幅型レジスト組成物。【効果】 この組成物は、良好なプロファイルを与え、かつ解像度に優れ、したがってレジスト性能の向上を図ることができる。

Claim (excerpt)：

放射線の作用により酸を発生する物質、アルカリ可溶性樹脂および、フェノール性水酸基を有するが、酸の作用により解裂可能な基を有しない分子量1000以下のフェノール系化合物を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R