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J-GLOBAL ID：200903023994699356

半導体製造工程用のリソグラフィ光源を提供するためのシステムおよび方法

Inventor： ハース,エドウィン,ジー ,  ガトゥスキ,ラバト,エム ,  キャリア,ヴィンサント,エス
Applicant, Patent owner： アドヴァンスド、エナジー、システィムズ、インク
Agent (1)： 真田 雄造 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000617700
Publication number (International publication number)：2002544675
Application date： May. 05, 2000
Publication date： Dec. 24, 2002
Summary：

【要約】プロセス流体プルームを発生させることを含む、リソグラフィ光源を提供するための方法を提供する。同軸の遮蔽流体がプロセス流体プルームの周囲に発生する。プラズマは、プロセス流体プルームに衝突するエネルギー源を提供することによって生成する。

Claim (excerpt)：

リソグラフィ光源を提供するための方法であって、 プロセス流体プルームを発生させること、 同軸の遮蔽流体を前記プロセス流体プルームの周囲に発生させること、および 前記プロセス流体プルームに衝突するエネルギー源を提供することによってプラズマを生成することを含む方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503

FI (2)：

G03F 7/20 503 ,  H01L 21/30 531 S

F-Term (3)：

2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  5F046GC03