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J-GLOBAL ID：200903024006167650
眼軸長測定装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
西脇 民雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992081980
Publication number (International publication number)：1993277074
Application date： Apr. 03, 1992
Publication date： Oct. 26, 1993
Summary：
【要約】【目的】 眼球の複屈折等の影響を受けることのない眼軸長測定装置を提供することにある。【構成】半導体レーザー111からの光束を直線偏光の測定光にして、前記測定光を被検眼眼底Er及び基準となる参照面133にそれぞれ照射すると共に、前記被検眼眼底から反射する眼底反射光及び参照面から反射する参照光を干渉光学系を構成するビームスプリッタ121,受光光学系170に導光して、前記眼底反射光と前記参照光とを干渉させ、該干渉光の作る干渉縞に基づき眼軸長を測定する制御回路を設けると共に、半導体レーザー111と被検眼との間にλ/2波長板128を光軸回りに回転操作可能に配置した眼軸長測定装置。
Claim (excerpt)：
光源部からの光束を直線偏光の測定光にして被検眼眼底及び基準となる参照面にそれぞれ照射すると共に、前記被検眼眼底から反射する眼底反射光及び参照面から反射する参照光を干渉光学系に導光して、前記眼底反射光と前記参照光とを干渉させ、該干渉光の作る干渉縞に基づき眼軸長を測定する測定手段を設けた眼軸長測定装置において、前記光源部と前記被検眼との間にλ/2波長板を光軸回りに回転操作可能に配置したことを特徴とする眼軸長測定装置。
Patent cited by the Patent：
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