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J-GLOBAL ID：200903024021151248

マスク用基板

Inventor： 西田 敏夫 ,  河合 義夫
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 三好 秀和 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991160537
Publication number (International publication number)：1993011431
Application date： Jul. 01, 1991
Publication date： Jan. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 パターン精度の高い位相シフトマスクを形成し得るマスク用基板を提供する。【構成】 基板1上に、透明導電層2と金属遮光体層4とを順次積層してなる位相シフトマスク用のマスク用基板において、前記透明導電層1と前記金属遮光体層4との中間に絶縁層3を形成したことを特徴とする。【効果】 金属遮光体層をエッチングする際の電気化学反応による異常エッチング領域の発生、および位相シフト材料のパターン加工時におけるチャージアップによるパターン変形の発生を、併せて効果的に抑制することが可能であり、パターン精度がきわめて高い位相シフトマスクを形成することができる。

Claim (excerpt)：

基板上に、透明導電層と金属遮光体層とを順次積層してなり、位相シフトマスクの形成に用いるマスク用基板において、前記透明導電層と前記金属遮光体層との中間に絶縁層を形成したことを特徴とするマスク用基板。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  G03F 1/14 ,  H01L 21/027