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J-GLOBAL ID：200903024041802113

シラン化合物及びその製造方法

Inventor：
山田 渉

About 山田 渉

, 
額田 克己

About 額田 克己

, 
岩崎 真宏

About 岩崎 真宏


Applicant, Patent owner：
富士ゼロックス株式会社

About 富士ゼロックス株式会社


Agent (1)： 中島 淳 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997180147
Publication number (International publication number)：1998251277
Application date： Jul. 04, 1997
Publication date： Sep. 22, 1998
Summary：
【要約】【課題】 有機電子デバイスに応用可能なように、溶解性、成膜性に優れ、強固な膜を形成する化合物を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)で表されるシラン化合物。【化1】[式中、Ar1 〜Ar4 はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ar5 は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を示し、且つAr1〜Ar5 のうち1〜4個は、-CH=CH-Y-SiR1(3-a)(OR2 )a 又は-CH2 CH2 -Y-SiR1(3-a)(OR2 )a で示される置換基を有し、R1は水素、アルキル基、置換又は未置換のアリール基を示し、R2 は水素、アルキル基、トリアルキルシリル基を示し、aは1〜3の整数を示し、Yは2価の基を示し、kは0又は1を示す]
Claim (excerpt)：
下記一般式(I)で表されるシラン化合物。【化1】[式中、Ar1 〜Ar4 はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ar5 は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を示し、且つAr1〜Ar5 のうち1〜4個は、-CH=CH-Y-SiR1(3-a)(OR2 )a 又は-CH2 CH2 -Y-SiR1(3-a)(OR2 )a で示される置換基を有し、R1は水素、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、R2 は水素、アルキル基又はトリアルキルシリル基を示し、aは1〜3の整数を示し、Yは2価の基を示し、kは0又は1を示す]
IPC (2)：
C07F 7/18 ,  G03G 5/06 312
FI (3)：
C07F 7/18 M ,  C07F 7/18 W ,  G03G 5/06 312
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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