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J-GLOBAL ID：200903024057726093

ジベンゾチオフェン化合物、中間体およびその製造方法

Inventor：
関根 千津

About 関根 千津

, 
岩倉 和憲

About 岩倉 和憲

, 
南井 正好

About 南井 正好

, 
藤沢 幸一

About 藤沢 幸一


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (1)： 酒井 一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001052954
Publication number (International publication number)：2002255960
Application date： Feb. 27, 2001
Publication date： Sep. 11, 2002
Summary：
【要約】【課題】光学機能性材料として有用な、3,7-位に反応性に富む2置換基を有する新規なジベンゾチオフェン化合物、その中間体及びその高選択的な製造法を提供すること。【解決手段】式(1)または(2)のジベンゾチオフェン化合物、式(3)又は(4)で示されるジベンゾチオフェンオキシド類、又はこれらの製造方法。【化1】(A1〜A6:H、F等、X:ハロゲン原子、Y:ハロゲン原子等)
Claim (excerpt)：
式(1)で示されるジベンゾチオフェン化合物。【化1】(式中、A1〜A6は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜10のアルキル基又はアルコキシ基を表し、Xはハロゲン原子を表し、Yはハロゲン原子又は水酸基を表す。)
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • 特許第1180743号
  • 特開平2-017184
  • 特許第1180743号
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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