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J-GLOBAL ID：200903024115117639
イオン注入装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997128259
Publication number (International publication number)：1998321151
Application date： May. 19, 1997
Publication date： Dec. 04, 1998
Summary：
【要約】【課題】本発明は小型で高質量分解能の大電流イオン注入装置を提供するものである。【解決手段】イオン源1と質量分離器2と質量分離スリット3と加速管4と四極レンズ5とビーム偏向器6と注入室7とでイオン注入装置を形成する。イオン源1には、ビーム進行方向下流側に凸型の湾曲形状のビーム引出し電極11を使用し、このビーム引出し電極11は、複数個の引出し孔を有する多孔電極である。
Claim (excerpt)：
プラズマを生成して該プラズマからイオンビームを引出すイオン源と、該イオン源からのイオンビームから所望のイオン種を分離する質量分離器と、該質量分離器で分離された所望のイオン種のビームが被注入物に所望の濃度分布で注入されるように、該ビームや該被注入物を走査する注入室とからなるイオン注入装置において、前記イオン源のビーム引出し電極が複数個の引出し孔を有する多孔電極であり、該電極の形状が、イオンビーム進行方向下流側に向かって凸型の湾曲形状であることを特徴とするイオン注入装置。
IPC (6)：
H01J 27/02
, C23C 14/48
, H01J 37/08
, H01J 37/141
, H01J 37/317
, H01L 21/265
H01J 27/02
, C23C 14/48 Z
, H01J 37/08
, H01J 37/141 A
, H01J 37/317 Z
, H01L 21/265 603 A
