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J-GLOBAL ID：200903024122307303

治具洗浄乾燥方法および装置

Inventor： 当麻 信明 ,  佐々木 彰
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立東京エレクトロニクス株式会社
Agent (1)： 筒井 大和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991165416
Publication number (International publication number)：1993013400
Application date： Jul. 05, 1991
Publication date： Jan. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 治具洗浄乾燥装置において、ワーク収納治具の乾燥時間を減少させ、スループットを向上させ、装置の設置スペースを減少させ、装置の小形化およびコストの低廉化を図り、ワーク収納治具内の不純物を溶出させ、パーティクルの付着を防止する。【構成】 治具洗浄乾燥装置において、温水を貯留する洗浄槽3と、ウエハ収納治具8を傾斜状態で収納するバスケット12と、このバスケット12を高速で洗浄槽3内に搬送し、洗浄後、洗浄槽3内から低速で引き上げる搬送ユニット11と、浸漬中のウエハ収納治具8に超音波を付与する超音波振動子6とを備えた構造とした。

Claim (excerpt)：

洗浄後、洗浄槽内の洗浄液中からワーク収納治具を傾斜状態で低速で引き上げつつ液切りを行い、ワーク収納治具の乾燥を行うことを特徴とする治具洗浄乾燥方法。

IPC (2)：

H01L 21/304 361 ,  H01L 21/304 341