反射防止膜

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石田敬 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998288018
Publication number (International publication number)：2000121803
Application date： Oct. 09, 1998
Publication date： Apr. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】 MgF2 と同程度に充分に低い屈折率を有し、有機材料を用いた光学器材の反射防止膜とし使用でき、更にその有機基材の表面保護機能を併せ持つ反射防止膜を提供する。【解決手段】フルオロ炭化水素基をケイ素原子に結合した置換基として有するポリシロキサン樹脂100重量部と、コロイダルシリカ10〜80重量部とを含有し、屈折率が1.40以下であるポリシロキサン樹脂組成物から構成される反射防止膜。更に、この膜の下に芳香族炭化水素基をケイ素原子に結合した置換基として有し、屈折率が1.50以上であるポリシロキサン樹脂を含有してなる層を有する反射防止膜。

Claim (excerpt)：

ケイ素原子に結合した置換基として、?@一般式Cn F2n+1C2 H4 -(nは1以上8以下の整数)で示される炭素数3以上、10以下のフルオロ炭化水素基、及び?A炭素数1以上6以下のアルキル基、を含む、ポリシロキサン樹脂(但し、前記?@のフルオロ炭化水素基がケイ素原子に結合した全置換基のうちの5モル%以上、90モル%以下の範囲にある)100重量部とコロイダルシリカの10重量部以上、80重量部以下とを含み、屈折率が1.4以下であるポリシロキサン樹脂組成物を有する反射防止膜。

IPC (7)：

G02B 1/11 , B32B 27/00 101 , C08J 7/04 , C09D 5/00 , C09D183/04 , G02B 1/04 , G11B 7/24 538

FI (7)：

G02B 1/10 A , B32B 27/00 101 , C08J 7/04 M , C09D 5/00 M , C09D183/04 , G02B 1/04 , G11B 7/24 538 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

低屈折率及び撥水性を有する被膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-309020 Applicant：日産化学工業株式会社
特開昭62-061001
特開平3-068901

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