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J-GLOBAL ID：200903024141194900

X線分析装置

Inventor： 大澤 澄人 ,  西村 克美 ,  万木 利和 ,  駒谷 慎太郎
Applicant, Patent owner： 株式会社堀場製作所
Agent (1)： 藤本 英夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999195523
Publication number (International publication number)：2001021510
Application date： Jul. 09, 1999
Publication date： Jan. 26, 2001
Summary：

【要約】【課題】 通常の光学顕微鏡によっては観察しにくい試料であっても、これを確実に観察することができ、所望のX線分析を行うことができるX線分析装置を提供すること。【解決手段】 試料台12上に載置された試料13に対してX線aを照射するようにしたX線分析装置において、前記試料台12の上方に螢光顕微鏡または微分干渉顕微鏡36を設け、X線aの試料13への照射に際して、前記螢光顕微鏡または微分干渉顕微鏡36によって試料13を観察して画像データとしてコンピュータ39に取り込み、この画像データをコンピュータ39の表示画面40a上に試料画像として表示させるようにしている。

Claim (excerpt)：

試料台上に載置された試料に対してX線を照射するようにしたX線分析装置において、前記試料台の上方に螢光顕微鏡または微分干渉顕微鏡を設け、X線の試料への照射に際して、前記螢光顕微鏡または微分干渉顕微鏡によって試料を観察して画像データとしてコンピュータに取り込み、この画像データをコンピュータの表示画面上に試料画像として表示させるようにしたことを特徴とするX線分析装置。

IPC (4)：

G01N 23/223 ,  G01N 23/04 ,  G02B 21/00 ,  G02B 21/16

FI (4)：

G01N 23/223 ,  G01N 23/04 ,  G02B 21/00 ,  G02B 21/16

F-Term (27)：

2G001AA01 ,  2G001DA02 ,  2G001EA03 ,  2G001HA09 ,  2G001HA13 ,  2G001HA20 ,  2G001JA11 ,  2G001JA16 ,  2G001LA01 ,  2G001LA11 ,  2G001NA05 ,  2G001NA06 ,  2G001NA16 ,  2G001NA17 ,  2G001PA02 ,  2G001PA07 ,  2G001PA11 ,  2G001PA14 ,  2G001SA02 ,  2G001SA10 ,  2H052AA05 ,  2H052AA09 ,  2H052AF02 ,  2H052AF13 ,  2H052AF14 ,  2H052AF23 ,  2H052AF25

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平1-147513
  
• 特開平4-175648