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J-GLOBAL ID：200903024141538740

ホログラフイツク光学素子の作製方法

Inventor： 谷口幸夫
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 韮澤 弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991156328
Publication number (International publication number)：1993006134
Application date： Jun. 27, 1991
Publication date： Jan. 14, 1993
Summary：

【要約】【目的】 感光材料の各局所領域で2本の光束を干渉させることのより、全体として所望の光学特性のホログラフィック光学素子を作製する。【構成】 同一光源からの2本の光束A、Bを感光材料1中の局所空間5において干渉させて局在する干渉縞を形成し、干渉領域を感光材料1中で相対的に移動させるとともにその位置に対応して少なくとも前記2本の光束A、Bの入射方向を制御しながら、同様に感光材料1中に局在する干渉縞の形成を繰り返すことにより、感光材料中に集合的な干渉縞を形成して、全体として所定の光学特性のホログラフィック光学素子を作製する。

Claim (excerpt)：

同一光源からの2本の光束を感光材料中の局所空間において干渉させて局在する干渉縞を形成し、干渉領域を感光材料中で相対的に移動させるとともにその位置に対応して少なくとも前記2本の光束の入射方向を制御しながら、同様に感光材料中に局在する干渉縞の形成を繰り返すことにより、感光材料中に集合的な干渉縞を形成して、全体として所定の光学特性の光学素子を作製することを特徴とするホログラフィック光学素子の作製方法。

IPC (2)：

G03H 1/04 ,  G03H 1/02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 特開平3-064702
  
• 特開平2-072319
  
• 特開昭60-156004
  
• 特開平3-206401
  

Cited by examiner (5)

• 特開昭61-262717
  
• 特開平3-064702
  
• 特開平2-072319
  
• 特開昭60-156004
  
• 特開平3-206401