Pat

J-GLOBAL ID：200903024158368252

セクタ型二次イオン質量分析方法及び試料ホルダ

Inventor： 大石 隆一
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 小池 隆彌
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999233623
Publication number (International publication number)：2001056308
Application date： Aug. 20, 1999
Publication date： Feb. 27, 2001
Summary：

【要約】【課題】 従来のSIMS測定を行った場合には、一次イオンと二次イオンが同じ極性である場合には、一次イオンの試料表面に平行な方向の速度成分が存在するため、一次イオンの入射エネルギーに二次引出電圧に比例した下限が存在し、一次イオンの入射エネルギーを下げるためには二次引出電圧を下げざるをえず、質量分析計の透過効率が下がるという問題があった。【解決手段】 本発明では、セクタ型二次イオン質量分析方法或いはセクタ型二次イオン質量分析装置に用いる試料ホルダとして、試料の法線方向を二次イオン光学軸の方向から一次イオン光学軸の方向に傾けたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

斜入射タイプのセクタ型二次イオン質量分析装置を用いた分析方法において、試料の法線方向を二次イオン光学軸の方向から一次イオン光学軸の方向に傾けたことを特徴とするセクタ型二次イオン質量分析方法。

IPC (5)：

G01N 23/225 ,  G01N 1/28 ,  G01N 27/62 ,  H01J 37/252 ,  H01J 49/04

FI (5)：

G01N 23/225 ,  G01N 27/62 B ,  H01J 37/252 B ,  H01J 49/04 ,  G01N 1/28 W

F-Term (21)：

2G001AA05 ,  2G001BA06 ,  2G001CA05 ,  2G001DA02 ,  2G001GA02 ,  2G001GA08 ,  2G001GA09 ,  2G001GA13 ,  2G001JA14 ,  2G001KA01 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA01 ,  2G001QA01 ,  2G001QA02 ,  5C033QQ05 ,  5C038EE03 ,  5C038EF15 ,  5C038EF18 ,  5C038EF21 ,  5C038EF31