パターン形成材料、パターン形成方法、及び露光用マスクの製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000080093
Publication number (International publication number)：2001264983
Application date： Mar. 22, 2000
Publication date： Sep. 28, 2001
Summary：

【要約】【課題】高い歩留まりでパターン形成マスクを製造することを可能とするパターン形成材料、パターン形成方法、及び露光用マスクの製造方法を提供すること。【解決手段】本発明のパターン形成材料は、アルカリ可溶性樹脂と電子ビーム照射により酸を発生する酸発生剤とを含有し、前記アルカリ可溶性樹脂がアルカリ溶液に溶解するのを抑止する溶解抑止能を有し且つ酸を適用することにより前記溶解抑止能を失う溶解抑止基をさらに含む電子ビーム描画用のパターン形成材料であって、前記溶解抑止基として、電子ビーム照射後に真空中で放置することにより前記パターン形成材料を高感度化させる第1の溶解抑止基と、電子ビーム照射後に真空中で放置することにより前記パターン形成材料を低感度化させる第2の溶解抑止基とを、前記パターン形成材料に電子ビームを照射することにより前記アルカリ溶液に可溶とされたアルカリ可溶部の寸法が真空中での放置時間に依存することなく実質的に一定となる割合で含有したことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂と電子ビーム照射により酸を発生する酸発生剤とを含有し、前記アルカリ可溶性樹脂がアルカリ溶液に溶解するのを抑止する溶解抑止能を有し且つ酸を適用することにより前記溶解抑止能を失う溶解抑止基をさらに含む電子ビーム描画用のパターン形成材料であって、前記溶解抑止基として、電子ビーム照射後に真空中で放置することにより前記パターン形成材料を高感度化させる第1の溶解抑止基と、電子ビーム照射後に真空中で放置することにより前記パターン形成材料を低感度化させる第2の溶解抑止基とを、前記パターン形成材料に電子ビームを照射することにより前記アルカリ溶液に可溶とされたアルカリ可溶部の寸法が真空中での放置時間に依存することなく実質的に一定となる割合で含有したことを特徴とするパターン形成材料。

IPC (6)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08L101/12 , G03F 1/08 , G03F 7/40 521 , H01L 21/027

FI (9)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08L101/12 , G03F 1/08 C , G03F 1/08 G , G03F 1/08 L , G03F 7/40 521 , H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 541 P

F-Term (43)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA11 , 2H025AB17 , 2H025AB20 , 2H025AC06 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB41 , 2H025FA10 , 2H025FA17 , 2H025FA39 , 2H095BB10 , 2H095BB31 , 2H095BC05 , 2H095BC08 , 2H096AA24 , 2H096AA27 , 2H096BA11 , 2H096EA06 , 2H096EA23 , 2H096GA08 , 4J002AA001 , 4J002BC121 , 4J002BG061 , 4J002BG071 , 4J002BH021 , 4J002BK001 , 4J002CC031 , 4J002CC051 , 4J002EB006 , 4J002EV216 , 4J002EV246 , 4J002EV296 , 4J002FD206 , 4J002GP03 , 5F056AA04 , 5F056CB05 , 5F056CB07 , 5F056DA04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

感放射線性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-228833 Applicant：ジェイエスアール株式会社
ポジ型感放射線性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-350719 Applicant：三菱化学株式会社
化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-185812 Applicant：信越化学工業株式会社

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