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J-GLOBAL ID：200903024187504319
フオトマスク用の石英ガラス基板
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
泉名 謙治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991327153
Publication number (International publication number)：1993139779
Application date： Nov. 15, 1991
Publication date： Jun. 08, 1993
Summary：
【要約】【目的】耐エッチング性に優れたフォトマスク用の石英ガラス基板。【構成】ハロゲン含有量が10ppm以下、OH含有量が100ppm以下、重金属およびアルカリの含有量の総計が1ppm以下であって、徐冷点が1150°C以上であり、かつ基板表面に、窒素、カーボン、アルミニウムのうちの少なくとも1種類をイオン注入してあることを特徴とするフォトマスク用の石英ガラス基板。
Claim (excerpt)：
ハロゲン含有量が10ppm以下、OH含有量が100ppm以下、重金属およびアルカリの含有量の総計が1ppm以下であって、徐冷点が1150°C以上であり、かつ基板表面に、窒素、カーボン、アルミニウムのうちの少なくとも1種類をイオン注入してあることを特徴とするフォトマスク用の石英ガラス基板。
IPC (2)：
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