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J-GLOBAL ID：200903024195927563

位置決め制御方法およびその装置

Inventor： 小黒 龍一
Applicant, Patent owner： 株式会社安川電機
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992202496
Publication number (International publication number)：1994051839
Application date： Jul. 29, 1992
Publication date： Feb. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】 位置決め制御方法およびその装置を、機械系への悪影響を低減することができ、かつ、定常特性を明確に設計することができるようにする。【構成】 位置偏差-速度位相平面上に、アンダーシュート抑制用スライディング曲線Sun=0,等価制御入力制御用スライディング曲線Se =0およびオーバーシュート抑制用スライディング曲線Sov=0をそれぞれ設定し、Uref =KV{(KPe-KS)(Xref-X)-V} で設計される加速度指令Uref に対しては、たとえば、位置決め中の位相面軌跡が第1の領域Aに入った場合に、位相面軌跡が第3の領域Cに入るまでは、KS=0とする。位置決め中の位相面軌跡が第4の領域Dに入った場合に、位相面軌跡が第2の領域Bに入るまでは、KS》KPe2/KV とする。

Claim (excerpt)：

基準位置から位置を減じて位置偏差を求め、該位置偏差に位置ループゲインを乗じ、該位置ループゲインが乗じられた位置偏差から速度を減じたのち速度ループゲインを乗じて加速度指令を求める位置決め制御方法において、位置偏差-速度位相平面上に、アンダーシュート抑制用スライディング曲線,等価制御入力制御用スライディング曲線およびオーバーシュート抑制用スライディング曲線をそれぞれ設定し、前記位置から前記位置偏差-速度位相平面上の位相面軌跡を求め、該求めた位相面軌跡に応じて前記位置ループゲインの値を変えることを特徴とする位置決め制御方法。

IPC (5)：

G05D 3/12 305 ,  G05D 3/12 ,  G05D 3/12 306 ,  G05B 5/01 ,  G05B 13/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-148302
  
• 特開平2-238508
  
• 特開昭60-051915