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J-GLOBAL ID:200903024205068262

光電変換装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 深見 久郎 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992176842
Publication number (International publication number):1994021427
Application date: Jul. 03, 1992
Publication date: Jan. 28, 1994
Summary:
【要約】【目的】 本発明は、暗電流を少なくすることができるように改良された光電変換装置を得ることを最も主要な特徴とする。【構成】 基板1の上に第1の電極10が設けられる。第1の電極10を覆うように基板1の上に、光電変換を行なうための半導体12か設けられる。半導体12の上に第2の電極14が設けられる。半導体12と第2の電極14との間に、第2の電極14から半導体12へ電子が注入されるのを阻止するための電子注入阻止層13が挿入される。電子注入阻止層13は、第2の電極14の仕事関数をφM とし、該電子注入阻止層13の電子親和力をχ2 とし、半導体12のバンドギャップをEg1 としたとき、下記不等式を満足する材料から形成される。φM 2 ≧Eg1
Claim (excerpt):
基板と、前記基板の上に設けられた第1の電極と、前記第1の電極を覆うように前記基板の上に設けられ、光電変換を行なうための半導体と、前記半導体の上に設けられた第2の電極と、前記半導体と前記第2の電極との間に挿入され、前記第2の電極から前記半導体膜へ電子が注入されるのを阻止するための電子注入阻止層と、を備え、前記電子注入阻止層は、前記第2の電極の仕事関数をφM とし、該電子注入阻止層の電子親和力をχ2 とし、前記半導体のバンドギャップをEg1 としたとき、下記不等式を満足する材料から形成される、光電変換装置。φM 2 ≧Eg1
IPC (3):
H01L 27/146 ,  H01L 31/04 ,  H01L 31/10
FI (3):
H01L 27/14 E ,  H01L 31/04 B ,  H01L 31/10 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平4-088675

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