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J-GLOBAL ID：200903024211015138

電子線式検査または測定装置およびその方法並びに光学的高さ検出装置

Inventor： 田中 麻紀 ,  広井 高志 ,  渡辺 正浩 ,  宇佐見 康継 ,  鈴木 浩之
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997351607
Publication number (International publication number)：1999183154
Application date： Dec. 19, 1997
Publication date： Jul. 09, 1999
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】電子光学系の偏向や収差などが原因となる画像歪みやデフォーカスによる解像度の低下などを低減して電子線像(SEM像)の質を向上させて、電子線像(SEM像)に基づく検査や測長を、高精度で、且つ高信頼性でもって実行できるようにした電子線式検査または測定装置およびその方法を提供する。【解決手段】電子光学系で照射された電子線によって被検査対象物上から発生する二次電子線像を検出する電子線像検出光学系104と、表面の高さを光学的に検出する光学的高さ検出装置200a,200bと、電子光学系の対物レンズ103に与えるように制御して電子線を被検査対象物上に合焦点状態で集束させる焦点制御手段109と、焦点制御に基づいて生じる電子線像の倍率誤差を含む像歪を校正する偏向制御手段108と、二次電子線像に基づいて被検査対象物上に形成されたパターンの検査または測定を行う画像処理手段とを有する。

Claim (excerpt)：

電子線源と該電子線源から発せられた電子線を偏向する偏向素子と該偏向素子で偏向される電子線を被検査対象物上に集束して照射する対物レンズとを有する電子光学系と、該電子光学系で偏向し、集束して照射された電子線によって前記被検査対象物から発生する二次電子線像を検出する電子線像検出光学系と、前記被検査対象物上に格子状の光束を斜め上方から投影する投影光学系と該投影光学系で投影された格子状の光束によって被検査対象物の表面から反射した格子状の光束を結像させてこの結像状態に応じた格子状の光学像を受光して格子状の信号に変換して検出する検出光学系と該検出光学系で検出される格子状の信号に基づいて検出誤差の小さい結像状態を探索し、該探索された検出誤差の小さい結像状態に対して適合する重み付け処理を前記検出光学系で検出される格子状の信号に対して施すことによって格子状の信号としての基準高さに応じた基準信号に対する移動量または位相変化量を求めて前記被検査対象物の表面の高さに応じた情報を得る算出手段とを有する光学的高さ検出装置と、該光学的高さ検出装置で得られた被検査対象物の表面の高さに応じた情報に基づいて前記電子光学系の対物レンズに流す電流または印加する電圧を制御して電子線を被検査対象物上に合焦点状態で集束させる焦点制御手段と、前記電子線像検出光学系で検出される二次電子線像に基づいて被検査対象物上に形成されたパターンの検査または測定を行う画像処理手段とを備えたことを特徴とする電子線式検査または測定装置。

IPC (3)：

G01B 21/02 ,  G01B 11/02 ,  G01B 15/00

FI (3)：

G01B 21/02 Z ,  G01B 11/02 Z ,  G01B 15/00 B