Pat
J-GLOBAL ID:200903024211068967

汚染水中のヒ素除去剤およびその製法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 植木 久一 ,  菅河 忠志 ,  二口 治 ,  伊藤 浩彰
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005098827
Publication number (International publication number):2006272260
Application date: Mar. 30, 2005
Publication date: Oct. 12, 2006
Summary:
【課題】 アトマイズ法などによって製造される高密度で安価な鉄を主たる構成素材として利用し、被処理水中に含まれるヒ素を効率よく安価に除去することのできるヒ素除去剤とその製法を提供すること。【解決手段】 ヒ素に汚染された水中のヒ素を除去するための除去剤であって、鉄粉の表面が鉄の水酸化物で被覆されている、ヒ素除去性能に優れると共に除去後の処理効率にも優れたヒ素除去剤である。この除去剤は、水に可溶性の鉄塩を含む水溶液中で鉄粉を撹拌し、該鉄粉の表面に鉄水酸化物を生成・付着させることによって得ることができる。
Claim (excerpt):
ヒ素に汚染された水中のヒ素を除去するための除去剤であって、鉄粉の表面が鉄の水酸化物で被覆されたものであることを特徴とする汚染水中のヒ素除去剤。
IPC (3):
C02F 1/28 ,  B01J 20/06 ,  C01G 49/02
FI (3):
C02F1/28 B ,  B01J20/06 A ,  C01G49/02 Z
F-Term (22):
4D024AA04 ,  4D024AA05 ,  4D024AB17 ,  4D024BA14 ,  4D024BB01 ,  4D024BB07 ,  4D024BC04 ,  4G002AA05 ,  4G002AB02 ,  4G002AD04 ,  4G002AE05 ,  4G066AA27B ,  4G066AA27C ,  4G066AA39A ,  4G066AA47A ,  4G066AA50A ,  4G066AA53A ,  4G066BA11 ,  4G066CA46 ,  4G066DA08 ,  4G066FA11 ,  4G066FA21
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (6)
  • 特開昭54-099349
  • 特開昭52-133890
  • 特開平1-127094
Show all

Return to Previous Page