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J-GLOBAL ID：200903024215096604

植栽方法

Inventor： 小池 英憲 ,  大津 洋介 ,  秋山 恵二朗 ,  桜井 光希 ,  中野 裕司
Applicant, Patent owner： 内山緑地建設株式会社 ,  ジオグリーンテック株式会社 ,  富士見グリーンエンジニアリング株式会社 ,  小岩金網株式会社 ,  ライト工業株式会社
Agent (1)： 山口 朔生 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993348453
Publication number (International publication number)：1995189260
Application date： Dec. 27, 1993
Publication date： Jul. 28, 1995
Summary：

【要約】【目的】 あらゆる地質に対応でき、良好な植栽環境を形成できる、植栽方法を提供すること。【構成】 斜面1に収容孔2を穿設し、前記収容孔2内に植栽基材4を充填し、収容孔2の真上に植物体5を載置する.

Claim (excerpt)：

斜面に植物体を載置して植栽する方法において、斜面に収容孔を穿設し、前記収容孔内に植栽基材を充填し、前記収容孔の真上に植物体を載置し、植物体の根部に植生基材を吹き付けることを特徴とする、植栽方法。

IPC (3)：

E02D 17/20 102 ,  A01G 1/00 301 ,  A01G 23/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開昭61-113927
  
• 特開昭50-078102
  
• 特開昭60-049722
  
• 特開昭53-021802
  
• 特開昭51-121904