Pat
J-GLOBAL ID:200903024251524736

電解質膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996003995
Publication number (International publication number):1997199144
Application date: Jan. 12, 1996
Publication date: Jul. 31, 1997
Summary:
【要約】【課題】所望の強度を有しながら高い含水率が保て結果として、高導電率を有する高分子電解質膜の製造方法を提供すること。【解決手段】イオン交換基を含有する有機化合物を含む液体より液体媒質を除去して生成膜を形成する膜生成工程と、得られた生成膜を水中または飽和水蒸気下で加熱する加熱工程とからなる電解質膜の製造方法。この膜は燃料電池などの電解質膜として利用できる。
Claim (excerpt):
電解質膜の原料であるイオン交換基を有する有機化合物を含む液体より液体媒質を除去して生成膜を形成する膜生成工程と、得られた生成膜を水中または飽和水蒸気圧下で加熱する加熱工程とからなることを特徴とする電解質膜の製造方法。
IPC (4):
H01M 8/02 ,  C25B 13/08 301 ,  H01M 8/10 ,  C08J 5/22
FI (4):
H01M 8/02 P ,  C25B 13/08 301 ,  H01M 8/10 ,  C08J 5/22
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • イオン交換膜の処理方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-142581   Applicant:住友電気工業株式会社
  • 特開平1-301722
  • 特開平1-301722
Show all

Return to Previous Page