露光装置および露光方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山口孝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996175921
Publication number (International publication number)：1998004059
Application date： Jun. 14, 1996
Publication date： Jan. 06, 1998
Summary：

【要約】【課題】たとえば2光子吸収レジストを用いた非線形多重露光において所定の光強度を実現するとともに各回の露光時間を短縮することのできる露光装置。【解決手段】パルス発振型のレーザー光源1からのレーザービームを集光して所定のパターンが形成されたマスク3を照明するための照明光学系ILと、マスク3のパターン像を感光性の基板5上に形成するための投影光学系4とを備えている。そして、基板5上には入射光の強度に対して非線形に露光が進行する感光特性を有するレジストが塗布され、基板5上での光強度分布を変化させて非線形多重露光を行う。

Claim (excerpt)：

パルス発振型のレーザー光源からのレーザービームを集光して所定のパターンが形成されたマスクを照明するための照明光学系と、前記マスクのパターン像を感光性の基板上に形成するための投影光学系とを備え、前記基板上には入射光の強度に対して非線形に感光が進行する感光特性を有するレジストが塗布され、前記基板上での光強度分布を変化させて非線形多重露光を行うことを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 514 A , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 B , H01L 21/30 515 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

パターン形成方法及び露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-122484 Applicant：株式会社日立製作所
露光方法及び露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-236031 Applicant：株式会社ニコン

Return to Previous Page