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J-GLOBAL ID：200903024337019163

アミノ官能性ケイ素化合物使用によるガスの選択的分離法

Inventor： ウイリアム アルフレッド スターク ,  マリス ジェイ ジーメリス
Applicant, Patent owner： ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
Agent (1)： ウオーレン・ジー・シミオール
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995072174
Publication number (International publication number)：1995265662
Application date： Mar. 30, 1995
Publication date： Oct. 17, 1995
Summary：

【要約】【目的】 汚染ガスからある種のガスを選択的に分離する方法の提供。【構成】 該方法は、汚染したガスを、シラン、シロキサン、シランとシロキサンの混合体、シランと非反応性有機流体との混合体、シランと非反応性シリコーン流体の混合体、シロキサンと非反応性有機流体の混合体、およびシロキサンと非反応性シリコーン流体の混合体から選択したアミノ官能性ケイ素化合物と、汚染したガス中の汚染物質を低減させるのに十分な温度で十分な時間接触させることから成る。

Claim (excerpt)：

汚染ガスを、下記のA〜Gから選択したアミノ官能性ケイ素化合物と汚染ガス中の汚染物質を低減させるのに十分な温度で十分な時間接触させることから成ることを特徴とする汚染ガスから或る種のガスを選択的に分離する方法:(A).シラン、(B).シロキサン、(C).(A)と(B)の混合体、(D).(A)と非反応性有機流体、(E).(A)と非反応性シリコーン流体、(F).(B)と非反応性有機流体、および(G).(B)と非反応性シリコーン流体、但し、(A)は式RaSiR′3-a (1)を有し、(B)は、次のa〜dから選んだ式を有する。および式中、各Rは、本質的に、式-R′′NH1-bQbR′′′NHQ′ (2)および式R′′NHQから選んだ基であり、式中のR′′およびR′′′はそれぞれ-(CH2 )z〔式中のzは2〜4の値を有する〕、式および式から選ぶ;各R′は炭素原子が1〜6のアルキル基、フエニル基および(CH3)3 SiOから選び;aは少なくとも1の値を有し;bは0または1の値を有し;各QおよびQ′は水素原子または炭素原子が1〜6のアルキル基から選び;各xは1〜500の値を有し;各yは1〜20の値を有する、但しアミノ官能性ケイ素化合物の粘度は、汚染ガスと接触する前に25°Cで30,000センチストークス(mm2 /s)の粘度を有する〕。

IPC (4)：

B01D 53/62 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/50 ,  B01D 53/56

FI (4)：

B01D 53/34 135 Z ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 122 Z ,  B01D 53/34 129 Z