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J-GLOBAL ID:200903024373146899

マイクロ波プラズマの製造方法および装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 吉田 研二 (外2名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1996504790
Publication number (International publication number):1998503049
Application date: Jul. 11, 1995
Publication date: Mar. 17, 1998
Summary:
【要約】本発明は、実質的に大気圧またはそれ以上の圧力のガスとひとたび生起されたプラズマ(6)を含む容器(4)からなることを特徴とする実質的に大気圧またはそれ以上の圧力でプラズマを製造するためのマイクロ波プラズマ装置に関する。マイクロ波を容器内に放射してプラズマの生起と持続を行う。容器(4)はプラズマ(6)をある体積に閉じ込めてひとたび生起されたプラズマ(6)の散逸を防止するような形状になっている。マイクロ波エネルギーの出力レベルを調節することによってひとたび生起されたプラズマを持続する。
Claim (excerpt):
実質的に大気圧またはそれ以上の圧力のガスとひとたび生起されたプラズマを容れる容器と、マイクロ波エネルギーを前記容器に放射してその中にプラズマを発生させるための手段と、前記プラズマを生起するための手段と、を有し、前記容器は前記プラズマをある体積内に閉じ込めてひとたび生起された前記プラズマが散逸しないような形状をしており、また、マイクロ波エネルギーを放射するための前記手段は、ひとたび生起された前記プラズマを持続するためにマイクロ波エネルギーの出力レベルを調節するための出力調節手段を有すること、を特徴とする実質的に大気圧またはそれ以上の圧力でプラズマを製造するマイクロ波プラズマ装置。
IPC (5):
H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/205 ,  C23F 4/00
FI (5):
H05H 1/46 B ,  C23C 16/50 ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/205 ,  C23F 4/00 D
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
  • 特開平1-183432
  • 特開平3-289541
  • 特開平4-056100
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