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J-GLOBAL ID：200903024413343196

ダイオキシン類汚染構造物の解体工法及びダイオキシン類の浄化方法

Inventor： 石渡 寛之 ,  浅井 靖史 ,  年見 剛輔
Applicant, Patent owner： 西松建設株式会社
Agent (1)： 間山 進也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999269844
Publication number (International publication number)：2001090353
Application date： Sep. 24, 1999
Publication date： Apr. 03, 2001
Summary：

【要約】【課題】 微生物のダイオキシン類分解能を利用し、安全、かつ経済的な環境調和型のダイオキシン類付着汚染構造物の解体工法及びダイオキシン類浄化方法を提供する。【解決手段】 焼却場設備及び周辺土壌のダイオキシン類にダイオキシン類分解能を有する微生物と被膜形成性の固定化剤とを含む組成物を付着させ、微生物によりダイオキシン類を分解する。

Claim (excerpt)：

ダイオキシン類により汚染された焼却場設備を周囲環境から遮断し、前記焼却場設備の内面にダイオキシン類分解能を有する微生物と被膜形成性の固定化剤とを含む組成物を付着させ、前記焼却場設備を解体することを特徴とするダイオキシン類汚染構造物の解体工法。

IPC (6)：

E04G 23/08 ,  A62D 3/00 ,  B09C 1/10 ZAB ,  C12N 1/14 ,  F23G 5/44 ZAB ,  F23J 3/00

FI (6)：

E04G 23/08 J ,  A62D 3/00 ,  C12N 1/14 ,  F23G 5/44 ZAB Z ,  F23J 3/00 Z ,  B09B 3/00 ZAB E

F-Term (36)：

2E176AA00 ,  2E176DD22 ,  2E191BB00 ,  2E191BB01 ,  2E191BC01 ,  2E191BC05 ,  2E191BD20 ,  3K061QA09 ,  3K065BA01 ,  3K065BA10 ,  3K065HA05 ,  4B065AA71X ,  4B065AC20 ,  4B065BC46 ,  4B065CA56 ,  4D004AA31 ,  4D004AA36 ,  4D004AA41 ,  4D004AB07 ,  4D004AC07 ,  4D004CA01 ,  4D004CA02 ,  4D004CA19 ,  4D004CA29 ,  4D004CA45 ,  4D004CB04 ,  4D004CB44 ,  4D004CB50 ,  4D004CC01 ,  4D004CC07 ,  4D004CC08 ,  4D004CC11 ,  4D004CC15 ,  4D004DA02 ,  4D004DA06 ,  4D004DA08