フォトレジスト用重合性不飽和化合物、及びフォトレジスト用樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：後藤幸久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999346958
Publication number (International publication number)：2001166481
Application date： Dec. 06, 1999
Publication date： Jun. 22, 2001
Summary：

【要約】【課題】経時変化をしない安定なフォトレジスト用高分子化合物を得るのに適したフォトレジスト用重合性不飽和化合物を得る。【解決手段】フォトレジスト用重合性不飽和化合物は、フォトレジスト用高分子化合物の単量体として使用される重合性不飽和化合物であって、酸価が200(mg-KOH/g)以下であることを特徴とする。前記重合性不飽和化合物には、例えば、下記式(1)【化1】[式中、Raは水素原子又はメチル基、Rb、Rcは、同一又は異なって、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。Rb及びRcは互いに結合して隣接する炭素原子とともに置換基を有していてもよい脂環式炭化水素環を形成してもよい。Xは連結基を示し、環Zは置換基を有していてもよい単環又は多環の芳香族又は脂環式炭化水素環を示す。i、j及びkは、それぞれ0又は1を示す]で表される化合物などが含まれる。

Claim (excerpt)：

フォトレジスト用高分子化合物の単量体として使用される重合性不飽和化合物であって、酸価が200(mg-KOH/g)以下であることを特徴とするフォトレジスト用重合性不飽和化合物。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 , C07C 69/54 , C08F 20/16 , C08F 20/26

FI (4)：

G03F 7/039 601 , C07C 69/54 B , C08F 20/16 , C08F 20/26

F-Term (61)：

2H025AA11 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025CB51 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB46 , 4H006AB76 , 4H006BA95 , 4H006BJ30 , 4H006BN20 , 4J100AG10P , 4J100AG15P , 4J100AG24P , 4J100AL08P , 4J100AL16P , 4J100AM21P , 4J100AN02P , 4J100AN05P , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA04P , 4J100BA05P , 4J100BA06P , 4J100BA10P , 4J100BA11P , 4J100BA15P , 4J100BA16P , 4J100BA20P , 4J100BA29P , 4J100BA30P , 4J100BA31P , 4J100BA40P , 4J100BA41P , 4J100BB01P , 4J100BB03P , 4J100BB05P , 4J100BB07P , 4J100BC01P , 4J100BC03P , 4J100BC04P , 4J100BC07P , 4J100BC08P , 4J100BC12P , 4J100BC27P , 4J100BC43P , 4J100BC49P , 4J100BC53P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100DA29 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

第3級アルコールエステル及びレジスト材料の調製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-350765 Applicant：富士通株式会社
特開昭63-033350
2-アダマンチル(メタ)アクリレート類の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-042474 Applicant：住友化学工業株式会社

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