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J-GLOBAL ID:200903024429839574

ベシクル技術を利用して下刷りすることにより染料ベースのインクの彩度とエッジ明瞭度を高める方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 古谷 馨 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000247224
Publication number (International publication number):2001123099
Application date: Aug. 17, 2000
Publication date: May. 08, 2001
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 彩度及びエッジ明瞭度が増大され、且つカラー-カラーブリードが低減されたインクジェット印刷用染料ベースのインクを提供する。【解決手段】 第1の符号の電荷を有する少なくとも1つの水溶性染料と少なくとも1つの界面活性剤から形成されるベシクルとを含有する水性の染料ベースインクであって、前記ベシクルは、2個又は偶数個の単層がその内部と外部の境界を定める壁を形成するように背面と背面で接続された二重層壁を包含し、前記水溶性染料は、前記ベシクルの前記内部と前記外部との間に主に分布される、水性の染料ベースインク。
Claim (excerpt):
第1の符号の電荷を有する少なくとも1つの水溶性染料と少なくとも1つの界面活性剤から形成されるベシクルとを含有する水性の染料ベースインクであって、前記ベシクルは、2個又は偶数個の単層がその内部と外部の境界を定める壁を形成するように背面と背面で接続された二重層壁を包含し、前記水溶性染料は、前記ベシクルの前記内部と前記外部との間に主に分布される、水性の染料ベースインク。
IPC (3):
C09D 11/00 ,  B41J 2/01 ,  B41M 5/00
FI (3):
C09D 11/00 ,  B41M 5/00 E ,  B41J 3/04 101 Y
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 特開昭64-085264
Cited by examiner (8)
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