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J-GLOBAL ID：200903024454787830

レーザプロジェクタ用の照射装置および方法

Inventor： カッペル, デイビッド ,  フィッシャー, ロバート イー. ,  タディク-ガレブ, ビルジャナ ,  ノックス, リチャード エム. ,  ハザウェイ, ケビン ジェイ.
Applicant, Patent owner： リエイク コーポレイション
Agent (3)： 山本 秀策 ,  安村 高明 ,  森下 夏樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002515522
Publication number (International publication number)：2004525390
Application date： Aug. 01, 2001
Publication date： Aug. 19, 2004
Summary：

レーザ投影システムなどの作像デバイスに適切な照射を提供するためのシステムおよび方法。一実施形態において、高度にコリメートされた(例えば、レーザ光)ビームをホログラムディフューザに通して、ディフューザ上の各点から出射する光のための明確なコーン角を生成する。この光はフォーカシングされ、ディフューザの規定によって制御された照射画像となる。一実施形態において、画像は、投影ディスプレイ用のイメージャに適合するための4:3アスペクト比を有する強度の均一な矩形である。ディフューザ規定およびその結果の照射画像は任意の所望のイメージャに適合するように選択され得る。本システムおよび方法は、高レベルの光効率、スペックルおよび「虫食い」の低減または除去、cosine4およびガウシアン強度フォールオフの低減または除去の利点(すべて従来の設計に共通する課題)を提供する。

Claim (excerpt)：

高度にコリメートされた光ビームを出射するように構成された光源と、 該高度にコリメートされた光ビームを受け取り、そして該光ビームから回折パターンを生成するように構成された制御角度ディフューザと、 該回折パターンをフォーカシングして画像にするように構成された視野レンズと を含むシステム。

IPC (3)：

G03B21/14 ,  G02B19/00 ,  G03B21/00

FI (3)：

G03B21/14 A ,  G02B19/00 ,  G03B21/00 D

F-Term (11)：

2H052BA02 ,  2H052BA03 ,  2H052BA07 ,  2H052BA09 ,  2H052BA14 ,  2K103AA16 ,  2K103AB05 ,  2K103BA13 ,  2K103BC20 ,  2K103BC23 ,  2K103BC32