Pat
J-GLOBAL ID:200903024469967370
高濃度オゾン水製造装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
木下 實三 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002008868
Publication number (International publication number):2003210956
Application date: Jan. 17, 2002
Publication date: Jul. 29, 2003
Summary:
【要約】【課題】効率よくオゾンを溶解させて高濃度のオゾン水を製造でき、装置全体を小型化できるオゾン水製造装置を提供することにある。【解決手段】オゾン水製造装置1は、オゾンガス発生部10と、タンク11と、供給ポンプ12A、12Bと、オゾン溶解部13と、圧力計14A、14Bと、温度計15と、バルブ16A、16Bおよび16Cと、オゾン水貯蔵タンク17と、ステンレス製の円管状の配管18A、18B、18C、18D、18Eおよび18Fとを備えている。
Claim (excerpt):
高濃度のオゾンが溶解したオゾン水を製造する高濃度オゾン水製造装置であって、オゾンガスを発生するオゾンガス発生部と、水を貯蔵するタンクと、前記オゾンガス発生部から供給されるオゾンガスを、前記タンクから供給される水に溶解させるオゾン溶解部とを備え、このオゾン溶解部は、複数の微細な溝状の流路(マイクロチャンネル)を有し、該マイクロチャンネル内で前記オゾンガスを前記水に吸収させるマイクロリアクタを備えることを特徴とする高濃度オゾン水製造装置。
IPC (9):
B01F 1/00
, B01F 3/04
, B01F 5/06
, C01B 13/10
, C02F 1/50 531
, C02F 1/50 540
, C02F 1/50 550
, C02F 1/50
, C02F 1/78
FI (12):
B01F 1/00 A
, B01F 3/04 Z
, B01F 5/06
, C01B 13/10 D
, C02F 1/50 531 R
, C02F 1/50 540 B
, C02F 1/50 550 B
, C02F 1/50 550 C
, C02F 1/50 550 D
, C02F 1/50 550 H
, C02F 1/50 550 L
, C02F 1/78
F-Term (12):
4D050AA01
, 4D050AB31
, 4D050BB02
, 4D050BD02
, 4D050BD03
, 4G035AA01
, 4G035AB27
, 4G035AC26
, 4G035AE02
, 4G035AE13
, 4G035AE15
, 4G042CE01
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