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J-GLOBAL ID：200903024498775324

残存活性酸化水素の除去方法

Inventor：
竹内 誠

About 竹内 誠


Applicant, Patent owner：
日本電子株式会社

About 日本電子株式会社


Agent (1)： 三好 秀和 (外8名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001171522
Publication number (International publication number)：2002362912
Application date： Jun. 06, 2001
Publication date： Dec. 18, 2002
Summary：
【要約】【課題】 本発明は、炭素材中に存在する活性酸化水素(例えば、COOH、CHO、OHなどのような含ヘテロ元素官能基として存在している)を、比較的低温で、かつ効率的に除去する方法を提供し、また、電気二重層キャパシタをはじめとする分極性電極に適した炭素活物質を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明の炭素材中に存在する残存活性酸化水素の除去方法は、炭素材と遷移金属あるいは遷移金属化合物とを混合する工程と、得られた炭素材と遷移金属あるいは遷移金属化合物との混合物を還元性ガス気流中で熱処理する工程とを含み、好ましくは、さらに、熱処理された炭素材と遷移金属あるいは遷移金属化合物との混合物から、遷移金属あるいは遷移金属化合物を分離する工程を含むことを特徴とするものである。
Claim (excerpt)：
炭素材と遷移金属あるいは遷移金属化合物とを混合する工程と、得られた炭素材と遷移金属あるいは遷移金属化合物との混合物を還元性ガス気流中で熱処理する工程とを含む、炭素材中に存在する残存活性酸化水素の除去方法。
IPC (6)：
C01B 31/02 101 ,  C01B 31/12 ,  H01G 9/058 ,  H01M 4/02 ,  H01M 4/58 ,  H01M 10/40
FI (6)：
C01B 31/02 101 B ,  C01B 31/12 ,  H01M 4/02 D ,  H01M 4/58 ,  H01M 10/40 Z ,  H01G 9/00 301 A
F-Term (19)：
4G046CA04 ,  4G046CB02 ,  4G046CC02 ,  4G046CC08 ,  4G046CC10 ,  5H029AJ01 ,  5H029AL06 ,  5H029AM02 ,  5H029CJ02 ,  5H029CJ28 ,  5H029HJ00 ,  5H029HJ14 ,  5H050AA01 ,  5H050BA17 ,  5H050CB07 ,  5H050GA02 ,  5H050GA27 ,  5H050HA00 ,  5H050HA14
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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