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J-GLOBAL ID：200903024513560488
光吸収性反射防止体
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
泉名 謙治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995324886
Publication number (International publication number)：1997156964
Application date： Dec. 13, 1995
Publication date： Jun. 17, 1997
Summary：
【要約】【課題】適度な光吸収率と反射防止性能とを有し、耐熱性にも優れる光吸収性反射防止体を低コストで生産する。【解決手段】基板10上に基板10側から、光吸収膜11と、シリカ膜13とを順に形成してなる光吸収性反射防止体において、光吸収膜11の膜厚が5〜25nmであり、かつ、シリカ膜13の膜厚が70〜110nmであることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
基体上に基体側から、光吸収膜と、シリカ膜とをこの順に形成してなる、シリカ膜側からの入射光の反射を低減させる光吸収性反射防止体において、光吸収膜の幾何学的膜厚が5〜25nmであり、かつ、シリカ膜の幾何学的膜厚が70〜110nmであることを特徴とする光吸収性反射防止体。
IPC (2)：
FI (2)：
C03C 17/34 Z
, G02B 1/10 A
