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J-GLOBAL ID：200903024593704051

水処理方法及びその装置

Inventor： 加藤 敏朗 ,  三木 理 ,  片山 真吾
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 秋沢 政光
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997336598
Publication number (International publication number)：1999156352
Application date： Nov. 21, 1997
Publication date： Jun. 15, 1999
Summary：

【要約】【課題】 塩素消毒に代わる消毒方法として、紫外線消毒および光触媒消毒の欠点を補い、微生物の光回復を抑止して効率的な処理を可能にする。【解決手段】 被処理水に紫外線発生ランプ2で紫外線を照射する際、同時に、二酸化チタン等を主成分とする光触媒と被処理水とが接触するように配した筒状、板状の光触媒担持体9〜12に紫外線を照射することによって微生物の光回復現象を抑制する。紫外線発生ランプ2としては、中圧または高圧水銀ランプを用いるのが望ましい。【効果】 紫外線による直接的な消毒効果に加えて、紫外線照射された光触媒によって生じる強い酸化力を有する遊離基による消毒効果によって、微生物の光回復現象を抑制し、効果的な消毒が可能になる。

Claim (excerpt)：

被処理水に紫外線発生ランプで紫外線を照射する水処理方法において、被処理水に紫外線を照射すると同時に、光触媒と被処理水とが接触するように配した光触媒担持体に前記紫外線を照射することによって微生物の光回復現象を抑制することを特徴とする水処理方法。

IPC (3)：

C02F 1/32 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02

FI (3)：

C02F 1/32 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J