Pat
J-GLOBAL ID:200903024625419354
電子線照射装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
奥山 尚男 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994110760
Publication number (International publication number):1995318698
Application date: May. 25, 1994
Publication date: Dec. 08, 1995
Summary:
【要約】【目的】 径が大きく特に断面形状が単純でない試料の場合であっても、一基の加速器により試料の全周から同時に電子線を一回で照射し得て能率的な電子線照射を行なうことができ、電子線照射技術の産業応用対象の範囲を拡大できるような電子線照射装置を提供する。【構成】 試料18の中心軸を取り囲む環状領域に沿って複数の電子源(電子銃7)を配置し、これらの複数の電子源7からそれぞれ放出される電子を試料18の中心軸に向けて加速するための直流電場または高周波電場を発生せしめるように構成する。
Claim (excerpt):
試料の中心軸を取り囲む環状領域に沿って複数の電子源を配置し、前記複数の電子源からそれぞれ放出される電子を前記試料の中心軸に向けて加速するための直流電場または高周波電場を発生せしめるように構成したことを特徴とする電子線照射装置。
IPC (4):
G21K 5/04
, C23C 14/30
, G21K 5/10
, H01J 37/06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
-
特開昭48-007591
-
特開昭64-006400
Return to Previous Page