連続プラズマ表面処理方法及び装置

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999164091
Publication number (International publication number)：2000353698
Application date： Jun. 10, 1999
Publication date： Dec. 19, 2000
Summary：

【要約】【課題】局所的なアーク放電を起こすことなく、以て大気圧下で均一な処理を行うことができる連続プラズマ処理方法、ならびにそのための装置を提供すること。【解決手段】スリット状通気孔が設けられた電極、該電極と一定の間隔を以て対向する電極から構成される対向電極間に、概ね大気圧下で、該スリット状通気孔からプラズマ表面処理のためのガスを導入しつつ交流電界を印加することによって放電プラズマを発生させ、該対向電極間に被処理物を連続的に供給移動させることによって被処理物を表面処理することを特徴とする連続プラズマ処理方法。ならびに、そのための装置。

Claim (excerpt)：

スリット状通気孔が設けられた電極、該電極と一定の間隔を以て対向する電極から構成される対向電極間に、概ね大気圧下で、該スリット状通気孔からプラズマ表面処理のためのガスを導入しつつ交流電界を印加することによって放電プラズマを発生させ、該対向電極間に被処理物を連続的に供給移動させることによって被処理物を表面処理することを特徴とする連続プラズマ処理方法。

IPC (4)：

H01L 21/31 , C23F 4/00 , H01L 21/205 , C23C 16/50

FI (4)：

H01L 21/31 C , C23F 4/00 A , H01L 21/205 , C23C 16/50 B

F-Term (30)：

4K030CA07 , 4K030CA12 , 4K030DA02 , 4K030EA05 , 4K030FA03 , 4K030GA14 , 4K030JA09 , 4K030KA15 , 4K030KA17 , 4K057DA20 , 4K057DB20 , 4K057DD01 , 4K057DE14 , 4K057DG07 , 4K057DM06 , 4K057DM09 , 4K057DM36 , 4K057DM37 , 4K057DM40 , 5F045AA08 , 5F045AE29 , 5F045AF07 , 5F045AF10 , 5F045DP22 , 5F045EH04 , 5F045EH05 , 5F045EH08 , 5F045EH12 , 5F045EH19 , 5F045EJ05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

支持体の表面処理方法、支持体の表面処理装置及び塗布方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-094468 Applicant：コニカ株式会社

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