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J-GLOBAL ID：200903024661860890

露光方法

Inventor： 諏訪 恭一 ,  蛭川 茂
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996142769
Publication number (International publication number)：1996320572
Application date： Dec. 21, 1988
Publication date： Dec. 03, 1996
Summary：

【要約】【課題】より微細なパターンを投影光学系の開口数の極端な増大、照明光の極端な短波長化を図ることなく転写可能にする。【解決手段】 照明光学系内(4)に形成される2次光源像からの光で所定パターン(Pa)が形成されたマスク(R)を照明し、該パターンを投影光学系(16)感応基板(W)に露光する方法において、2次光源像を径や幅を可変もしくは、切り替え可能な輪帯状に形成する。また、投影光学系の瞳を通過する光束を輪帯状に制限する。これらの手法により焦点深度を増大させる。

Claim (excerpt)：

照明光学系内に形成される2次光源像からの光で所定パターンが形成されたマスクを照明し、該パターンを感応基板に露光する方法において、前記2次光源像を径や幅を可変もしくは、切り替え可能な輪帯状に形成することを特徴とする露光方法。

IPC (2)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 515 A ,  H01L 21/30 527

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭59-222840
  
• 特開昭62-171123
  
• 特開昭61-091662