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J-GLOBAL ID：200903024681763254

下水処理水の殺菌方法

Inventor： 海賀 信好 ,  金丸 公二
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 猪股 祥晃
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993330888
Publication number (International publication number)：1995185576
Application date： Dec. 27, 1993
Publication date： Jul. 25, 1995
Summary：

【要約】【目的】従来の下水処理水の紫外線照射殺菌法を改良して、殺菌効果を向上させ、環境汚染のおそれのない衛生的な下水処理水を河川等に放流できるようにすることを目的とする。【構成】放流前の下水処理水を紫外線照射処理することによって殺菌処理する下水処理水の殺菌方法において、紫外線照射前の段階で下水処理水をオゾン処理することを特徴とする。また、紫外線照射前の段階で下水処理水をオゾン処理し、オゾン処理後の下水処理水を貯留させて濁質分を浮上分離除去することを特徴とする。後者においては、オゾン処理前に下水処理水に凝集剤を添加することによってさらに効果を向上させることができる。

Claim (excerpt)：

放流前の下水処理水を紫外線照射処理することによって殺菌処理する下水処理水の殺菌方法において、紫外線照射前の段階で下水処理水をオゾン処理することを特徴とする下水処理水の殺菌方法。

IPC (8)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/24 ,  C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/52 ZAB ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-247294
  
• 特開昭56-060681
  
• 特開平4-247294
  
• 特開昭56-060681