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J-GLOBAL ID：200903024689102214

汚水処理方法および汚水処理装置

Inventor： 青沼 武三 ,  小林 達治
Applicant, Patent owner： ゴールド興産株式会社 ,  小林 達治
Agent (1)： 高橋 紘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995058094
Publication number (International publication number)：1996224592
Application date： Feb. 22, 1995
Publication date： Sep. 03, 1996
Summary：

【要約】【目的】 任意の長さに配置する処理管装置内にセラミック部材を収容して汚水処理装置を構成し、処理管装置内で光栄養細菌等の微生物を増殖させて汚水中の有機物の処理を行うことにより、構成の簡単な汚水処理装置を構成できるようにする。【構成】 汚水処理装置1は、汚水を投入する投入部容器2と、排水を放出する排出部容器7の間に、長い処理管装置3を配置している。前記処理管装置3を構成するパイプ部材にはセラミック部材を配置しており、前記セラミック部材を、ゼオライト等の無機質で多孔質な物質と、さんご等の多孔質のカルシウム成分、活性炭、磁性体を混合し、球形状やその他の任意の形状に成形したものを焼結し、焼結後に着磁させて、多孔質で磁性を有するものとして構成している。そして、前記セラミックの磁性と、多孔性を利用して光栄養細菌等の微生物の活動を助長する作用を発揮させるようにする。

Claim (excerpt)：

パイプ状の処理管装置の内部に、磁場を持つ多孔質のセラミック部材を収容し、前記処理管装置の内部に光栄養細菌ならびに共生有機栄養微生物を接種し、前記処理管装置に汚水を通すことにより水質浄化することを特徴とする汚水処理方法。

IPC (4)：

C02F 3/34 ZAB ,  C02F 3/06 ZAB ,  C02F 3/10 ,  C02F 3/20

FI (4)：

C02F 3/34 ZAB A ,  C02F 3/06 ZAB ,  C02F 3/10 Z ,  C02F 3/20 C