複数の結晶相を有する試料の解析方法および装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：小谷悦司 , 伊藤孝夫 , 樋口次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006251537
Publication number (International publication number)：2008070331
Application date： Sep. 15, 2006
Publication date： Mar. 27, 2008
Summary：

【課題】複数の結晶相を有する試料についての各結晶相の割合と結晶子サイズとを短時間で同時に求める。【解決手段】X線回折測定を行って被解析試料の実測回折パターンを得、その回折測定結果をリートベルト解析することにより近似計算式に含まれる各種パラメータを精密化するとともに、この精密化されたパラメータの値から上記被解析試料における各結晶相の割合(質量分率χ)と結晶子サイズ(結晶子径p)とを算出するようにした試料の解析方法において、上記各種パラメータのうちの2次プロファイルパラメータに対して少なくとも最初の精密化処理を行う際に、上記2次プロファイルパラメータの中でも各結晶相の割合や結晶子サイズの算出結果に相対的に大きく影響するパラメータU,X,Yを、各結晶相のU同士,X同士,Y同士がそれぞれ同一という制約条件の下で精密化する。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

複数の結晶相を有する試料の解析方法であって、 X線回折装置を用いて被解析試料の実測回折パターンを得る第1の工程と、この第1の工程で得られた実測回折パターンと、近似計算式に基づく計算回折パターンとを一致させるように、当該近似計算式に含まれる下記(1)(2)のパラメータ; 「(1)2次プロファイルパラメータとしての下記パラメータ、・格子ひずみに起因したプロファイルの拡がりに関するパラメータU,Y,Ye、・結晶子サイズの効果に起因したプロファイルの拡がりに関するパラメータP,X,Xe、・主にX線回折装置や光学系に依存するパラメータV,W、 (2)尺度因子パラメータや格子定数等からなる、上記2次プロファイルパラメータ以外のパラメータ」をそれぞれ精密化するリートベルト解析を行う第2の工程と、このリートベルト解析により精密化されたパラメータのうち特定のパラメータの値に基づき、上記被解析試料における各結晶相の割合と結晶子サイズとを算出する第3の工程とを含み、上記第2の工程では、上記各種パラメータの精密化処理を複数回繰り返して行うとともに、上記各種パラメータのうち2次プロファイルパラメータに対して少なくとも最初の精密化処理を行う際に、上記各結晶相の割合や結晶子サイズの算出結果に相対的に大きく影響するパラメータU,X,Yを、各結晶相のU同士,X同士,Y同士がそれぞれ同一という制約条件の下で精密化することを特徴とする複数の結晶相を有する試料の解析方法。

IPC (1)：

G01N 23/20

FI (1)：

G01N23/20

F-Term (7)：

2G001AA01 , 2G001BA18 , 2G001CA01 , 2G001FA02 , 2G001GA01 , 2G001GA13 , 2G001KA08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

構造パラメータ解析装置及び解析方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-289779 Applicant：三菱重工業株式会社

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