Pat
J-GLOBAL ID：200903024755255973

光触媒粒子体およびその製造法

Inventor：
下林 浩太郎

About 下林 浩太郎


Applicant, Patent owner：
日東電工株式会社

About 日東電工株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996343373
Publication number (International publication number)：1998180115
Application date： Dec. 24, 1996
Publication date： Jul. 07, 1998
Summary：
【要約】【課題】光触媒粒子の表面に光劣化の発生を高度に防止しうる被膜を形成すると共に、被膜による光量の低下が少なく、光触媒粒子自体の機能を充分に発揮させることができる光触媒粒子体およびその製造法を提供することを課題とする。【解決手段】本発明は、光触媒粒子の表面にSiO2被膜を形成してなる光触媒粒子体に関するものであり、具体的には、アルコキシシランを加水分解して光触媒粒子の表面にSiO2を析出させることにより、SiO2被膜が形成されたガラス質コートの光触媒粒子体を製造する。
Claim (excerpt)：
光触媒粒子の表面にSiO2被膜を形成してなる光触媒粒子体。
IPC (5)：
B01J 33/00 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/02 301 ,  C01B 33/12 ,  C09D 7/12
FI (5)：
B01J 33/00 ,  B01J 35/02 J ,  B01J 37/02 301 C ,  C01B 33/12 C ,  C09D 7/12 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM