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J-GLOBAL ID：200903024764268379

真空処理装置

Inventor： 坪根 恒彦 ,  田村 直行 ,  加藤 重和 ,  西畑 廣治 ,  伊藤 温司 ,  伊藤 陽一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 武 顕次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991255964
Publication number (International publication number)：1993067672
Application date： Sep. 09, 1991
Publication date： Mar. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 試料台に載置した試料の温度を正確に維持することができる真空処理装置を提供すること。【構成】 試料台5に誘電体層7を介在させて試料6を載置し、試料台5と試料6の間に直流高圧電源14より直流高電圧を印加することにより該試料6を静電力で該試料台5上に固定すると共に温調機10より配管23を介して該試料台5の冷媒液通路5aに冷媒液を導入して調温する真空処理装置において、電流検出器13により前記誘電体層7に流れる電流を検出し、該検出結果に基づいて前記冷媒液の流量または温度を制御することにより前記試料6の温度を調整する。

Claim (excerpt)：

試料台に誘電体を介在させて試料を載置し、試料台と試料の間に直流高電圧を印加することにより該試料を静電力で該試料台上に固定すると共に該試料台に冷媒を導入して調温する真空処理装置において、前記誘電体に流れる電流を検出し、該検出結果に応じて前記冷媒の流量または温度を制御することにより前記試料の温度を調整するようにしたことを特徴とする真空処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/68 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/66