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J-GLOBAL ID：200903024765226246

プラズマ発生方法及びプラズマ発生装置

Inventor： 松永 浩一 ,  澤田 康志 ,  田中 昇
Applicant, Patent owner： 株式会社ハイデン研究所 ,  松下電工株式会社
Agent (1)： 原田 信市
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001302893
Publication number (International publication number)：2003109794
Application date： Sep. 28, 2001
Publication date： Apr. 11, 2003
Summary：

【要約】【課題】 連続使用しても電極が加熱されて高温プラズマになるようなことはなく、処理時間を短縮できるとともに、安定した低温プラズマにより処理品質を向上させることができ、また異常放電により被処理物にダメージを与えることもなく、更にプラズマ発生の制御が容易であるのに加え装置規模も小さくできるようにする。【解決手段】 一対の電極1・2間に印加する高電圧を減衰振動波が間欠的に繰り返し生ずる減衰振動波形周期波として各減衰振動波ごとに共振させ、その各減衰振動波ごとに、アーク放電発生に伴い共振ズレを生じさせてアーク放電を中断させることにより、間欠的アーク放電とする。

Claim (excerpt)：

対向する一対の電極間に高電圧を印加して強制的にアーク放電させ、これら電極間にガスを送入してその風力によって放電を拡張させるプラズマ発生方法において、前記一対の電極間に印加する高電圧を減衰振動波が間欠的に繰り返し生ずる減衰振動波形周期波として各減衰振動波ごとに共振させ、その各減衰振動波ごとに、アーク放電発生に伴い共振ズレを生じさせてアーク放電を中断させることにより、間欠的アーク放電とすることを特徴とするプラズマ発生方法。

IPC (4)：

H05H 1/24 ,  A61L 2/14 ,  B01J 19/08 ,  H05H 1/32

FI (4)：

H05H 1/24 ,  A61L 2/14 ,  B01J 19/08 E ,  H05H 1/32

F-Term (20)：

4C058AA01 ,  4C058BB02 ,  4C058DD03 ,  4C058DD11 ,  4C058DD12 ,  4C058KK06 ,  4C058KK11 ,  4C058KK21 ,  4C058KK27 ,  4C058KK50 ,  4G075AA22 ,  4G075BA05 ,  4G075BA10 ,  4G075CA17 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075DA03 ,  4G075DA04 ,  4G075EC21 ,  4G075EC30