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J-GLOBAL ID：200903024771017861
高電圧パルスによる細胞内有用物質の放出方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
石川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993068264
Publication number (International publication number)：1994277060
Application date： Mar. 26, 1993
Publication date： Oct. 04, 1994
Summary：
【要約】【目的】 細胞を完全に破砕せずに細胞内の有用物質を取り出すことのできる細胞内の有用物質の放出方法を提供する。【構成】 細胞を含んだ懸濁液にパルス電界を印加する際に、印加エネルギーの制御を行なう。印加エネルギーの制御は、パルス印加回数またはパルス発生装置におけるコンデンサ容量を変化させて行なう。
Claim (excerpt)：
細胞を含んだ懸濁液にパルス電界を印加する際に、細胞を完全に破砕しないように印加エネルギーを制御して、細胞内の有用物質を放出させることを特徴とする高電圧パルスによる細胞内有用物質の放出方法。
Patent cited by the Patent：
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