露光方法及び露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高月亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992285043
Publication number (International publication number)：1994120101
Application date： Sep. 30, 1992
Publication date： Apr. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】露光条件を定めるための補正に要する時間を短縮でき、かつシステム的にも低コストにすることが可能な露光方法及び露光装置を提供する。【構成】 ?@露光すべきパターンの寸法をパラメータとし、複数の寸法について各寸法に応じた適正露光量を予め実験や計算により求めておき(II) 、露光時に、被露光体のパターンの寸法に応じた適正露光量を、前記予め求めた各寸法についての適正露光量から導いて、この露光量により露光照射を行う露光方法。?A近隣のパターンと孤立した位置にあるパターンについて、近隣のパターンの該パターンに対する散乱の影響を無視して露光量算定の方程式を立て、該方程式に、露光すべきパターンの寸法を入れて解き、これにより適正露光量を導き、この露光量により露光照射を行う露光方法。

Claim (excerpt)：

パターン状にエネルギ照射して露光を行う露光方法において、露光すべきパターンの寸法をパラメータとし、複数の寸法について各寸法に応じた適正露光量を予め求め、露光時に、被露光体のパターンの寸法に応じた適正露光量を、前記予め求めた各寸法についての適正露光量から導いて、この露光量により露光照射を行うことを特徴とする露光方法。

IPC (4)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

特開平2-209723
特開昭58-063135
特開平3-242921

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Cited by examiner (4)

特開平3-242921
特開平2-209723
特開昭58-063135

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